Planar Semiconductor AG
“Wir produzieren und verkaufen das weltweit am weitesten entwickelte System.”

Pressemitteilung 1

Nach intensiver Forschung und Entwicklung, Planar Semiconductor AG (HSE: PLS) hat seine proprietäre Generation II gaslose gepulste Strahltechnik, die vollständig über seine Pulsar-Produktfamilie aufgenommen ist, entwickelt. Ein Pulsar System bereitet die Oberfläche eines Halbleiterwafers und reinigt es – vor allem mit entionisiertem Wasser – ohne die erweiterte Strukturen, die auf das Wafer hergestellt sind, zu beschädigen; als Folge dessen Nutzung wird die Produktrendite der Halbleitergerätehersteller gesteigert. Pulsar-Systeme sind in 300mm, 200mm und bald 450mm Wafer-Verarbeitung Konfigurationen angeboten. Hohe Flexibilität aufgrund seiner Fähigkeit, mehrere Prozesse in einem einzigen System durchzuführen, Pulsar bietet eine extrem hohe Produktivität zu einem sehr konkurrenzfähigen Preis.

Ein Halbleiterwafer ist ein Basissubstrat aus Polysilicium auf dem Halbleitervorrichtungen (allgemein als “Chips” bezeichnet), durch wiederholte Prozesse einschließlich Photolithographie, chemische Abscheidung, Ätzen, Ionenimplantation und Oberflächenvorbereitung / Reinigung aufgebaut wurden. Die Halbleiterindustrie verwendet 300mm und 200mm-Wafern für das meiste Teil der Produktion von Speicher-und Logikchips weltweit. Mehrere hundert bis tausend Chips sind in der Regel auf einem einzelnen Wafer aufgebaut, so dass der Wafer immer wertvoller wird, und diese Wafer werden in state-of-the-Art-Herstellungsanlagen (allgemein als “fabs” bezeichnet) verarbeitet, die mehrere Milliarden Dollar zu bauen und auszustatten kosten.
Planar Generation I Technologie wurde erfolgreich in Planar ursprünglichen Systeme verwendet, die in hoher Stückzahlen von Speicher- und Logikchips an mehreren Kundenstandorten eingesetzt worden sind.

Planar ist Technologieführer in der Oberflächenvorbereitung und Reinigungsanlagen für die globale Halbleiterindustrie. Seine Website ist www.planarsemiconductor.com.